臺(tái)式掃描電鏡 ZEM20是澤攸科技ZEM系列中的一款高性價(jià)比臺(tái)式掃描電子顯微鏡（SEM），采用預(yù)對(duì)中鎢燈絲電子源與真空分隔技術(shù)，兼具高分辨率成像與快速操作體驗(yàn)。其緊湊設(shè)計(jì)、超大樣品倉(cāng)及智能化操作界面，適配材料科學(xué)、電子制造、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的微納結(jié)構(gòu)表征需求，尤其適合實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)的高效檢測(cè)場(chǎng)景。

核心特點(diǎn)

1. 優(yōu)秀成像性能

2. 
   

• 高分辨率：4nm@20kV，最大放大倍數(shù)36萬倍，清晰呈現(xiàn)納米級(jí)表面形貌（如金屬顆粒、碳納米管）。

• 雙真空模式：標(biāo)配高真空，可選配低真空（1-60Pa），支持非導(dǎo)電樣品免噴金觀察。

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3. 高效操作與快速換樣

4. 
   

• 真空分隔設(shè)計(jì)：電子槍與樣品倉(cāng)獨(dú)立真空，換樣時(shí)間＜1分鐘（最快30秒），提升檢測(cè)效率。

• 全鼠標(biāo)操控：一體式聚光鏡設(shè)計(jì)，無需手動(dòng)調(diào)節(jié)光闌，簡(jiǎn)化操作流程。

1. 靈活擴(kuò)展與智能監(jiān)測(cè)

2. 
   

• 多軸樣品臺(tái)：標(biāo)配三軸移動(dòng)，可選五軸臺(tái)適配復(fù)雜樣品定位與原位實(shí)驗(yàn)。

• 倉(cāng)內(nèi)攝像頭：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)樣品動(dòng)態(tài)變化，支持原位加熱、拉伸等拓展功能。

• 多探測(cè)器兼容：標(biāo)配SE/BSE探測(cè)器，可選配EDS能譜分析，實(shí)現(xiàn)成分與形貌聯(lián)動(dòng)檢測(cè)。

1. 工業(yè)級(jí)適配性

2. 
   

• 超大樣品倉(cāng)：兼容塊狀、粉末及薄膜樣品，支持大尺寸工業(yè)件（如電路板、涂層試片）直接觀測(cè)。

• 減速模式選配：弱導(dǎo)電樣品無需預(yù)處理，降低檢測(cè)成本與時(shí)間。

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參數(shù)摘要

應(yīng)用領(lǐng)域

• 材料科學(xué)：納米材料形貌分析（如碳納米管、金屬顆粒）、涂層/鍍層均勻性檢測(cè)。

• 電子制造：PCB板缺陷檢測(cè)、半導(dǎo)體器件微觀結(jié)構(gòu)觀測(cè)。

• 生物醫(yī)學(xué)：生物組織表面形貌研究、藥物載體顆粒分析。

• 工業(yè)質(zhì)檢：合金相結(jié)構(gòu)觀察、復(fù)合材料界面表征。

• 科研教育：高校實(shí)驗(yàn)教學(xué)、跨學(xué)科微納尺度研究。

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臺(tái)式掃描電鏡 優(yōu)勢(shì)總結(jié)

• 高效便捷：真空分隔技術(shù)+全鼠標(biāo)操作，大幅提升檢測(cè)效率。

• 靈活拓展：支持EDS、原位臺(tái)等多模塊擴(kuò)展，滿足進(jìn)階分析需求。

• 廣泛適配：低真空模式與超大樣品倉(cāng)，覆蓋導(dǎo)電/非導(dǎo)電、大尺寸樣品檢測(cè)。